喷漆，撒点或者荧光粉。带颜色的话， 如果塑胶本身是透明的 第一涂黑底（遮光） 第二涂银底（金属感）第三涂色浆（红色）第四涂UV固化（表面保护）。如果是枪色的话能不用黑底因为本身颜色可以遮光。

  电镀是被处理件当作阴极，镀层作为阳极，溶液也是包含镀层。电镀可以是局部电镀，双面胶和特殊处理胶水或者油漆保护非电镀面。

  阳极氧化。铝，铝合金等铝制品。类似苹果手机壳亚光的那种效果。阳极氧化膜上面会存在很多的微孔，可拿来着色。无论是阳极氧化还是注塑，深黑色和透明总是最难处理的。

  电镀是镀的一层金属，而电泳涂的是一层树脂，电泳相比电镀更简单、操作方便。所以从成本上来说相差甚远，电泳比电镀要便宜很多。

  不锈钢、铝合金等。对比喷塑，电泳的优点是更为适合异形的边边角角的难喷涂到的零件。分为阳极电泳和阴极电泳。阳极电泳比较容易操作，成本比较低。但是破坏了工件表面，效果比阴极电泳要差。

  抛光 镜面抛光 A面 B面等等 镜面抛光，亮面蚀纹1045，亚光。抛光抛不到的地方能用放电，镜面电极

  喷砂。喷砂（Sand Blasting）是采用压缩空气为动力，以形成高速喷射束将喷料（铜矿砂、石英砂、金刚砂、铁砂、海南砂）高速喷射到需要处理的工件表面，使工件表面的外表面的外表或形状发生明显的变化，由于磨料对工件表面的冲击和切削作用，工件表面获得一定的清洁度和不同的粗糙度。使工件表面的机械性能得到一定的改善，因此提高了工件的抗疲劳性，增加了它和涂层之间的附着力，延长了涂膜的耐久性，更有助于涂料的流平和装饰。

  尽管它适用于某些金属零件，塑料和玻璃的表面喷涂，但粉末喷涂大多数都用在保护和着色铝和钢。

  11. IMD 模内。类似波仔片，包括IML有膜，以及IMR将图案印刷在一层箔膜上，通过送膜将膜片与塑模型腔贴合进行注塑，注塑后有图案的油墨层与箔膜分离，油墨层留在塑件上而得到表面有装饰图。类似薄长的注塑件，IML带膜非常容易变形，所以我们考虑使用 IMR。

  17. 微弧氧化 铝镁高温氧化膜。高级版的阳极氧化。光学航空航天高大上的领域。

  电火花也叫EDM，电极也叫做铜公，分粗公和幼公。有些地方不能一次性加出来的铜公就必须拆了，所以就有了拆铜公。拆铜公就是依照产品形状加工的难易程度，将其拆成若干部件。

  20. 真空电镀。真空电镀是一种物理沉积现象。在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材料，并且靶材料的分离的分子被导电物质吸收，从而形成均匀且光滑的金属状表面层。真空度能轻松实现局部电镀效果，很多按键和按摩仪就是类似效果。

  a. 许多材料都可进行真空电镀，包括金属，软硬塑料，复合材料，陶瓷和玻璃。其中，最常见的电镀表面处理是铝，其次是银和铜。

  b. 天然材料不适合真空电镀，因为天然材料的水分会影响真空环境加工成本：在真空电镀工艺中，需要对工件进行喷涂，装载，卸载和重新喷涂，因此人力劳动成本相当高，但这还取决于工件的复杂性和数量。对环境的影响：真空电镀对环境的污染很小，类似于喷涂对环境的影。

  电抛光是一种电化学过程，其中浸入电解质中的工件的原子由于电流的通过而被转换成离子并从表面去除，进而达到去除工件表面上的细毛刺并增加其效果的效果，提高工件的亮度。

  a. 大多数金属可以电解抛光，其中最常用于不锈钢的表面抛光（非常适合于奥氏体不锈钢）。b. 不同的材料不能一起进行电抛光，甚至不能放入相同的电解溶剂中。工艺成本：电解抛光的整一个完整的过程绝大多数都是由自动化完成的，因此人力成本非常低。

  24. AF处理。AF处理又称防指纹涂层处理，是利于蒸镀方式，在陶瓷表面上镀上一层涂层，该涂层使陶瓷表面不易产生指纹，耐磨性佳.

  27. 烧蓝。烧蓝（Enameling）在用彩色釉填充整个胎体后，将其在高炉温度约800摄氏度的高炉中烘烤。彩色釉从沙状固体熔化成液体。冷却后，它变成固定在胎体上的绚丽的彩色釉。此时，彩色釉料低于铜线的高度，因此必须再次填充彩色釉料，然后通常将其连续烧结四到五次，直到图案被金银丝图案填充为止。

  28. PVD(物理气相沉积,Physical Vapor Deposition) 。PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下使用低压，大电流电弧放电技术，利用气体放电来蒸发目标物质并使被蒸发的物质和气体电离，以及通过加速电场来使所蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上

  工艺流程：镀料的气化→镀料原子、分子或离子的迁移→镀料原子、分子或离子在基体上沉积对环境的影响：PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展趋势。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。特点：有耐磨，耐腐蚀，导电、绝缘，光导、压电，磁性、润滑，超导等特性的膜层。优点：工艺过程简单，高硬度，低摩擦系数，可镀膜层种类广泛 ，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点：限制在真空环境

  NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，简称 VM是vacuum metallization的缩写。它源自普通真空电镀的高科技。它是指在真空条件下使用化学和物理等特定手段将金属材料来有机转化，以将金属转化为颗粒，这些颗粒沉积或吸附在塑料材料的表面上以形成薄膜，它的加工技术比普通的真空电镀技术要高，而且其加工工艺也比普通的电镀工艺复杂得多。

  简单的说：NCVM，即不导电真空电镀，一般是针对塑胶。也可以称真空飞铟。（喷粉是涂料颗粒，这个是金属颗粒）

  在真空条件下，采用物理气相沉淀的方法镀无机氧化物如氧化硅、氧化钛等来改变基材表面的光学特反射、折射特性。

  离子镀（Ion plating）是一种在真空条件下利用气体放电使气体或蒸发的物质部分电离，并在轰击气体离子或蒸发的物质离子的情况下将蒸发的物质或其反应物沉积在基板上的方法。

  分类：磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等

  基材：可镀材料广泛。离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用场景范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等;

  2.清洗过程简单。现有镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清理洗涤效果极好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。;

  3.镀层质量好;离子镀的镀层组织致密、无针孔、无气泡、厚度均匀。甚至棱面和凹槽都可均匀镀复，不致形成金属瘤。像螺纹一类的零件也能镀复，由于这种工艺方法还能修补工件表面的微小裂纹和麻点等缺陷，故可有效地改善被镀零件的表面上的质量和物理机械性能。疲劳试验表明，如果处理得当，工件疲劳寿命可比镀前高20%-30%

  等离子抛光也可以是超声波抛光后的一种继续优化处理，是干法抛光，超声波是湿法抛光。

  电镀 特有的注塑工艺IMD包含IMLF IML IMR (模内装饰/ 模内印刷） 真空镀膜 氟化处理（耐腐蚀），有UV墨的UV打印机LED冷光打印